自动研磨机Allied MultiPrep™

前数字指示器显示实时的材料去除率（样品的行程），1微米分辨率

后置的数字指示器显示垂直位置（静态），具有归零功能，1微米分辨率

精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转

双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度）

6倍速样品自动摆动

8倍速样品自动旋转

MultiPrep™系统适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，精确角度抛光，定点抛光或几种方式结合抛光。它解决了操作者之间的不一致性，提供可重复的结果；而不管他们的技能如何，MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触。

双测微计（倾斜度和摆动度）允许相对于研磨盘进行精确的样品倾斜度调整，精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预定义的几何方向。

数字指示器可以量化材料的去除率，可以实时监测或进行预先设定的无人操作。可变速的旋转和振荡，能够很大限度地提高整个研磨/抛光盘的使用和减少手工制样。可调负荷控制，扩大了其从小样品（易碎样品）到大样品的全方位处理能力。

常见的应用包括并联电路层级、横截面、楔角抛光等。

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前数字指示器显示实时的材料去除率（样品的行程），1微米分辨率	后置的数字指示器显示垂直位置（静态），具有归零功能，1微米分辨率
双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），+10°/-2.5°幅度， 0.02° 增量。	精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转
6倍速样品自动摆动	8倍速样品自动旋转
凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具	齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩，较大或封装的样品
样品调整范围：0-600克（100克增量）	美国ALLIED设计制造
7“LCD触摸屏，带键盘输入控制所有功能	研磨盘速度范围：5-350 RPM（5转速增量）
顺时针/逆时针研磨盘旋转	数字计时器和转速表
可选的AD-5 ™自动操作流体分配器	调节阀电子控制冷却液
0.5 HP（375 W），高扭矩马达	稳定的RIM，铝和不锈钢结构
腐蚀/耐冲击盖	一年保修
	由美国Allied设计制造

编号	描述
15-2100	MultiPrep™精密抛光系统，用于8”研磨盘，100-240V 50/60Hz 1相
	包括：飞溅环和压板盖，刻度盘指示器校准套件，夹具/附件存储盒
	尺寸: 15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)
	重量: 95 lb. (43 kg)
15-2100-TEM	带O型环驱动的MultiPrep™系统，用于8”研磨盘，100-240V 50/60Hz 1相 - 专为透射电子显微镜而设计样品制备精致材料研磨抛光
	包括：飞溅环和压板盖，刻度指示器校准套件，夹具/附件存储盒
	尺寸: 22" W x 26" D x 21" H (560 x 660 x 535 mm)
	重量: 125 lb. (57 kg)

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